本文標題："保證膠膜厚薄為什么要對粘度和使用規程實行嚴格控制"

發布者：YIYI ------ 分類: 站內動態 ------ 人瀏覽過 -----時間：2015-9-23 17:58:33

保證膠膜厚薄為什么要對粘度和使用規程實行嚴格控制

    光刻要使已進行摻雜的硅區域暴露出來可以采用“光刻”方
法在硅氧化物上刻蝕圖形。為此，先把對特定的紫外光帶敏感的
乳膠均勻轉壓在硅片上，然后通過刻有所需圖形的精密掩模進行
曝光。這道工序通常在專門的潔凈室里進行，室內采用不影響乳
膠性質的黃色照明。每個掩模在一個X-Y陳列里刻有好幾百個
相同的圖形，每個圖形形成一個電路。要去除曝光區的長化物可
利用稀作的氛氟酸進行腐蝕，這種酸能夠溶解氧化硅，但不能腐蝕
受到乳膠保護的部分。
    硅片上的乳膠必須均勻一致，厚度一定。乳膠膜薄對制造很
小的圖形是有利的，但是，膜太薄可能出現針孔，使氧化物產生不
應有的小孔。膠膜厚度還決定了需要曝光的時間，厚度變化過大
會引起一部分硅片曝光不當。要保證膠膜厚薄一致，必須對其粘
度和使用規程實行嚴格控制，而且使用前乳膠必須經過過濾，除去
其中的固體粒子。
 

后一篇文章：電子顯微鏡觀察不發芽種子的胚軸, 植物微生物實驗 »
前一篇文章：« 電子顯微鏡雙極硅集成電路的主要電路元件

tags:數碼顯微鏡,光學顯微鏡,生物顯微鏡,精密儀器,

保證膠膜厚薄為什么要對粘度和使用規程實行嚴格控制,熒光顯微鏡現貨供應

本頁地址：http://m.hn-baiduw.cn/wz/2145.html轉載注明
本站地址：http://m.hn-baiduw.cn/
http://www.xianweijing.org/