本文標題："金屬表面清潔度檢測顯微鏡-高效能的去微塵清洗"
發布者：yiyi ------ 分類: 站內動態 ------ 人瀏覽過 -----時間：2013-4-16 10:58:30
“先進光罩清洗技術－Puddle Megasonic Nozzle及導電性原子力顯微鏡之應用”主要探討藉由無硫酸清洗工具(non-sulfate cleaning tool)，
研究1 MHz覆液式兆聲波清洗噴嘴(Puddle Megasonic Nozzle)的各項性能參數，如兆聲波功率、覆液式噴嘴與清洗表面的間距(gap)，對含MoSi層的先進光罩，
能達到無損傷、高效能的去微塵清洗。此外，文中亦以導電式原子力顯微術(Conducting Atomic Force Microscopy, CAFM)為工具研究以1 MHz覆液式兆聲波清洗噴嘴清洗后的金屬鉻二元式空白光罩(chrome binary blank)，其奈米等級的表面電氣特性，對于檢驗先進光罩(如EUV blank)于奈米尺度下的本質缺陷(intrinsic defect)，具有相當助益，CAFM在將來有機會成為有力的光罩檢驗工具。
總之創新半導體奈米技術將帶動行動運算的技術起飛，驅動著數位生活的變革。目前各類行動運算裝置如智慧型手機、平板電腦的重要核心技術隨著多媒體逐漸成為現代數位內容的主流，優異的圖像顯示與圖形運算也在消費大眾的生活娛樂與商務溝通中扮演要角。在云端無線聯網概念的蓬勃發展之下，智慧系統的應用將充斥在未來的生活中，為人類打造更智慧的生活模式隨著智慧系統在數位家庭、車用電子、工業領域的大量應用，嵌入式系統已然成為新一代明星技術。這些都需要先進并節能的半導體與光電制程設備技術。
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